2009年02月24日 
第4回化粧品産業技術展のご案内
岩瀬コスファ株式会社は､2009年3月4日(水)から6日(金)まで､パシフィコ横浜にて開催されます『第4回化粧品産業技術展』に出展いたします｡
【当社出展ブース】I-01
天然系素材･機能性素材･抗菌素材を中心に､各種新原料を展示させて頂きます｡期間中は､下記の通り技術発表をさせて頂く予定です｡
出展に関しましては､当社営業までお気軽にお尋ねください｡
東京オフィス:03-6202-2345
大阪オフィス:06-6231-3456
また､出展者技術発表では､下記､4講演を行いますので併せてご来場をお待ちいたしております｡
【技術発表】
3月4日(水) 11:25～11:55 A会場
｢敏感肌用化粧品に適した原料の紹介とその応用｣
(シムライズ?と共同発表)
3月4日(水) 13:40～14:10 A会場
｢抗菌性オゾン化界面活性剤(SFTO)の特性と応用｣
(?ERCテクノロジーと共同発表)
3月5日(木) 11:25～11:55 A会場
｢天然抗菌性原料･MFPの特性と化粧品への応用｣
(?バイオスキンテクと共同発表)
3月6日(金) 11:10～11:40 B会場
｢植物由来グリコール『Zemea®プロパンジオール』の特性と応用｣
皆様御多忙の事とは存じますが､万障御繰り合わせの上､是非当社ブース並びに技術発表に御立ち寄り頂けましたら幸甚です｡
皆さまのご来場をお待ちいたしております｡
第4回化粧品産業技術展 CITE Japan2009の詳細については
よりご確認ください｡
